一、厂颁-3100
●通过连接笔颁创建各种收集模式，并从硅晶片的表面和侧面(斜角部分)收集(采样)微量金属污染物。
●设备引入简单，不需要太多外部资源，不占用太多空间。
●由于工作是机械完成的，因此不需要操作员技能，任何人都可以轻松取样。
●由于设备自动供给取样化学品并移动支架，因此与厂颁-2000相比，可以减少工人造成的污染。
二、厂颁-8100
●具有即使在亲水状态的晶圆上也能收集污染物的功能，并且可以对硅以外的材料制成的晶圆或因体蚀刻等而导致表面变得粗糙的晶圆进行采样。
●放宽了对晶圆条件和采样化学品类型的限制，使得可以回收重金属以外的离子。
●当然，传统的疏水表面采样也是可能的。
叁、厂颁-9100
●具有即使是亲水状态的晶圆也能捕集污染物的功能，可对硅以外的材料的晶圆或因整体蚀刻等导致表面粗糙的晶圆进行取样。
●放宽了对晶圆条件和采样化学品类型的限制，使得可以回收重金属以外的离子。
●当然，传统的疏水表面采样也是可能的。
●由于设备自动供给取样化学品并移动支架，因此与厂颁-8100相比，可以减少工人造成的污染。
更新时间：2024-09-05&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;
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