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对于光谱干涉式晶圆测厚仪厂贵-3的特征及用法

更新时间:2023-04-14&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;浏览次数:341

特征

  • 通过光学方法可以进行非接触式和非破坏性的厚度测量。

  • 实现高测量再现性

  • 可实时高速监控抛光

  • 实现了长 WD(工作距离)并且易于集成到设备中

  • 从主机设备使用 LAN 通过 TCP/IP 通信进行控制

  • 可以进行多层厚度测量

  • 可测量临时晶圆(临时键合晶圆)各层厚度

用法

  • 各种晶圆(硅、其他化合物晶圆)的厚度测量

  • 融入各种工艺,如研磨、抛光、粘合等。

  • 晶圆以外的厚膜部件厚度测量

  • 300 毫米晶圆测绘系统

  • 通过对准精细图案提供晶圆厚度和各种厚度信息

  • 配备高精度齿驰定位平台(&辫濒耻蝉尘苍;2μ尘以下),实现高精度定位

  • 可以处理晶圆以外的形状

  • 可以检查测量点周围的视野

  • 对应半导体用300尘尘晶圆

  • 与 MEMS 和传感器设备兼容


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